產(chǎn)品介紹

葉面積指數(shù)測定儀的測試原理主要基于冠層孔隙率與冠層結構的關系，并采用了光線穿過介質(zhì)減弱的比爾定律。該儀器通過半理論半經(jīng)驗的公式，利用冠層孔隙率的測定來計算冠層結構參數(shù)，進而推導出葉面積指數(shù)等關鍵參數(shù)。具體來說，它利用魚眼鏡頭成像和圖像傳感器捕捉冠層下方的天穹半球圖像，并通過對這些圖像的分析來計算冠層的孔隙率。

功能特點
葉面積指數(shù)測定儀為一體化設計，包括液晶顯示屏、操作按鍵、存儲SD卡及測量探桿等。儀器菜單操作簡單，體積小，攜帶方便。存儲介質(zhì)為市場上通用的SD卡，存儲容量大，數(shù)據(jù)管理方便！在功耗上有合理的電源管理方案，測試過程中儀器根據(jù)實際情況自動進入待機狀態(tài)，需要時按喚醒鍵即可喚醒屏幕，觀察實際數(shù)據(jù)。測量方式分為自動和手動兩種。自動測量時間間隔最小1分鐘，自動測量次數(shù)最大99次，手動測量根據(jù)實際需要手動采集即可。

技術參數(shù)
測量范圍：0-2700μmol㎡/秒
分辨率：1μmol㎡/秒
響應時間：10μs
自動采集間隔：1-99分鐘
自動采集次數(shù)：1-99次
數(shù)據(jù)存儲容量：2GB（標配SD卡）
儀器總長度：75 cm
探桿長度：50 cm
傳感器數(shù)量：25個（標配）
電源：2節(jié)5號電池
工作環(huán)境：0°C-60°C；100%相對濕度

可廣泛應用于農(nóng)業(yè)生產(chǎn)和農(nóng)業(yè)科研，為進行冠層光能資源調(diào)查，測量植物冠層中光線的攔截，研究作物的生長發(fā)育、產(chǎn)量品質(zhì)與光能利用間的關系，本儀器用于400nm－700nm波段內(nèi)的光合有效輻射（PAR）測量、記錄,測量值的單位是平方米·秒上的微摩爾（μmol㎡/秒）。

應用場景
農(nóng)業(yè)生產(chǎn)：在農(nóng)業(yè)生產(chǎn)中，可用于監(jiān)測作物冠層結構，根據(jù)測量結果調(diào)整施肥和灌溉計劃，提高作物產(chǎn)量和質(zhì)量。
田間試驗：通過檢測不同處理條件下冠層結構的變化，評估不同管理措施的效果。
花卉栽培：使用監(jiān)測冠層結構，根據(jù)檢測結果調(diào)整施肥和修剪方案。
草坪管理：通過分析草坪冠層的光截獲情況，優(yōu)化草坪的養(yǎng)護管理。
生態(tài)修復：在生態(tài)修復項目中，通過監(jiān)測植被冠層結構，評估植被重建的效果，確保生態(tài)修復工程的成功實施。
污染治理：監(jiān)測植被冠層結構的變化，評估污染土壤的治理效果。
氣候變化研究：通過長期監(jiān)測不同地區(qū)植被冠層結構的變化，研究氣候變化對植被生長的影響，為氣候變化應對提供科學依據(jù)。